金庸十六招（zhāo）式趣味解讀手板（bǎn）模型工藝

發布日期：2016-04-11 08:03:04

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葵（kuí）花（huā）寶（bǎo）典——真空電鍍

真（zhēn）空電鍍（Vacuum Metalizing）：一種物理沉積現象。即在真空（kōng）狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的（de）貨品吸附形成一層均勻光（guāng）滑的仿金屬表麵（miàn）層。

典型產品：反射塗層，消費電子產品和隔熱板的表麵處理
產（chǎn）量適合：單（dān）件到大批量皆可
質量：高質量，高亮和產品表麵保護層
速度：中等的生產速度，6小時/周期（包括噴漆）
適用材料：1、很多材（cái）料可以進行真空電（diàn）鍍，包括金屬，軟硬塑料，複合材料，陶瓷和玻璃（lí）。其（qí）中最常見用（yòng）於電鍍表麵處理的是鋁材，其次是銀和銅。

2、自然材料不適合進行真空電鍍處理，因為（wéi）自然材料本身的水分會影響真（zhēn）空環境

工藝成本：真空電鍍非常依賴人工操作（zuò），真空電鍍過程（chéng）中，工件需要噴塗，裝載，卸載和再噴塗，所（suǒ）以人力成本相（xiàng）當高（gāo），但（dàn）是也取決於工件的複雜度和數量。
環境影響：真空電鍍對環境汙染很小（xiǎo），類似於噴塗對環（huán）境（jìng）的影響。

實（shí）例（lì）展示：

香（xiāng）水瓶的真空電鍍

獨孤九（jiǔ）劍（jiàn）——電解拋（pāo）光

電解拋光（Electropolishing）：以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到電解槽（cáo）中，通以直流電離反應而產生有選擇性的陽極溶解，從而達到工件表（biǎo）麵除去細微毛刺和光亮度（dù）增大的（de）效果。

典（diǎn）型產品：建築結構，食物處理儲存和（hé）醫（yī）療製藥
產量適合：單件到大（dà）批量皆可
質量：表麵高亮，光滑且衛（wèi）生
速（sù）度：中等（děng）的生（shēng）產速度，5-30分鍾/周期
適用材料：1.大多數金屬（shǔ）都（dōu）可以被電解拋光（guāng），其中最常用於不（bú）鏽鋼的表麵拋（pāo）光（尤其（qí）適（shì）用於（yú）奧氏體核級不鏽鋼）。

2.不同材料不可同時進行電解拋光，甚至不（bú）可以放在同一（yī）個電解溶劑裏（lǐ）。

工藝成本：電解拋光（guāng）整（zhěng）個過程基本由自動化完成，所以人工費用很低。
環境影響：電解拋光采用（yòng）危害較小的化學物質，整個過程需要（yào）少量的水且操作簡單，另外可以（yǐ）延長（zhǎng）不鏽鋼的屬性，起到讓不鏽鋼（gāng）延（yán）緩（huǎn）腐蝕的作（zuò）用。

實例（lì）展示

其他產品電解拋光

九陰真經——光蝕刻（kè）表麵處理

光（guāng）蝕（shí）刻表麵處理（Photo Etching）：簡稱光（guāng）刻，利（lì）用照相手段製作抗蝕膜（mó）像，用來保護表麵，在金屬、塑料等上麵，借助化學腐蝕劑進行腐蝕產生表麵紋理的方法。

典型產品：用於珠寶首飾，銘牌和獎杯（bēi）的表麵（miàn）處理
產量適合：單件到大批量皆可
質量（liàng）：延長曝光和化學物質都可以實現光蝕刻表麵處理
速度：中等的生產速度（50-100微米/5分（fèn）鍾）
適用材料：1.大多（duō）是金屬都（dōu）適合光蝕刻表（biǎo）麵處理，最常見的有不鏽鋼，軟（ruǎn）鋼（gāng），鋁，黃銅，鎳，錫，銅和銀。其中鋁材（cái）的光蝕刻速度最快，而不鏽鋼的光蝕刻速度最慢。

2.玻璃，陶瓷也適合光蝕刻表（biǎo）麵（miàn）處理（lǐ），隻是需要（yào）不同的光阻（zǔ）蝕（shí）劑和化學（xué）物質（zhì）。

工藝成本（běn）：1.模（mó）具費用低2.人力成本中（zhōng）等
環境影響（xiǎng）：光蝕刻產生的金屬（shǔ）廢屑須（xū）做可控回收;用於光蝕刻的化學物質還有（yǒu）三（sān）分之一的氯化鐵，而且也會用苛性鈉（火堿（jiǎn））來處理廢棄的感光膠片，這兩種化學物質都是有害的，所以操作人（rén）員在處理時需要穿防（fáng）護服。

實例展示

金屬標牌的光蝕刻

九陽神功——移印工藝

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